上海至纯洁净系统科技股份有限公司成立于2000年，是一家在上海证券交易所上市的高新技术企业，证券代码603690.SH，注册资本3.87亿元。公司目前近80%的业务服务于集成电路领域。公司主要从事半导体制程设备、系统集成及支持设备的研发和生产销售，以及由此衍生的部件材料及专业服务。通过20多年在行业内的深耕，公司在高纯工艺系统领域已经形成从研发、设计、制造到供应链的较强竞争优势，主要服务于一线集成电路用户。
公司致力打造高端湿法设备制造开发平台。公司提供的湿法清洗设备，包括湿法槽式清洗设备及湿法单片式清洗设备，聚焦晶圆制造的前道工艺，主要应用于扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积等关键工序段前后。高端产品包括SPM高温硫酸、FIN ETCH、单片磷酸、去胶、晶背清洗等清洗设备。公司产品腔体、设备平台设计与工艺技术都和国际一线大厂路线一致，采用先进二流体产生的纳米级水颗粒技术，能高效去除微粒子的同时还可以避免兆声波的高成本。是国内能提供到28纳米制程节点全部湿法工艺的本土供应商，在更先进制程节点，至微也已取得部分工艺订单。公司单片式、槽式湿法设备得到客户认可，公司12寸单片湿法清洗设备和槽式湿法设备将有效代表本土品牌参与到中国大陆高端清洗设备市场的竞争。
公司的总部和研发中心位于上海市闵行区紫竹国家高新区。至纯科技拥有市级企业技术中心，下设高纯工艺技术和半导体核心工艺装备方向，同时配套建设了研发中试车间、检测实验室与计量实验室，用于新技术的样机开发试制、工艺性能测试等，并设有院士专家工作站。至纯科技积极跟踪客户的工艺需求和创新，建立了自主研发的科研创新体系，集团累计申请专利600多项。
上证路演中心开场
管理层介绍公司发展情况及业绩
网络文字互动问答
蒋渊女士
董事长、总经理
至纯科技
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陆磊先生
集团副总兼董事会秘书
至纯科技
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可视化财报
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