企业注册

　 上海至纯洁净系统科技股份有限公司成立于2000年，是一家在上交所上市的高新技术企业，证券代码603690.SH，注册资本3.20亿元。公司主要从事半导体制程设备、工艺支持设备的研发和生产销售，以及由此衍生的高纯工艺系统建设、电子材料、部件清洗及晶圆再生等服务。我们提供的系统、设备和专业服务，广泛应用于泛半导体领域。通过20多年在行业内的深耕，公司在高纯工艺系统领域已经形成从研发、设计、制造到供应链的较强竞争优势，主要服务于一线集成电路用户，竞争对手也均为国际厂商。

　　公司致力打造高端湿法设备制造开发平台。公司于2015年开始启动湿法工艺装备研发，2016年成立院士工作站，2017年成立独立的半导体湿法事业部，致力打造高端湿法设备制造开发平台。公司产品腔体、设备平台设计与工艺技术都和国际一线大厂路线一致，采用先进二流体产生的纳米级水颗粒技术，能高效去除微粒子的同时还可以避免兆声波的高成本。是国内能提供到28纳米制程节点全部湿法工艺的本土供应商，单片式、槽式湿法设备得到客户认可，公司12寸单片湿法清洗设备和槽式湿法设备将有效代表本土品牌参与到中国大陆和中国大陆以外高端清洗设备市场的竞争。

　　公司的总部和研发中心位于上海市闵行区紫竹国家高新区。至纯科技拥有市级企业技术中心，下设高纯工艺技术和半导体核心工艺装备方向，同时配套建设了研发中试车间、检测实验室与计量实验室，用于新技术的样机开发试制、工艺性能测试等，并设有院士专家工作站。至纯科技积极跟踪客户的工艺需求和创新，建立了自主研发的科研创新体系，集团专利500多项。

　　至纯经营围绕“关注核心工艺，服务关键制程”，立志成为国内领先的半导体工艺装备、工艺系统及材料提供商，并努力成为参与国际竞争的中国半导体装备企业。公司以半导体行业为核心，打造湿法清洗制程设备、工艺支持设备的研发和制造平台，同步发展高纯工艺系统建设、电子耗材及核心部件、关键生产环节专业服务及智能生产系统发展，协同半导体领域应用技术、同类客户资源，满足客户生产链多环节、多样化的服务需求，服务于客户全生命周期。秉承“规划一片森林，让树木自由生长”的核心理念，以诚信共赢为原则，以持续创新为制胜之本，着力将企业打造成让“用户信赖、员工收获、投资者安心、社会满意”的优质上市公司。