拓荆科技股份有限公司(简称“拓荆科技”或“公司”),成立于2010年4月,2022年4月20日在上海证券交易所科创板成功挂牌上市,股票代码688072。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内集成电路晶圆制造产线。公司先后多次承担国家重大专项/课题,坚持自主创新,构建了完善的知识产权体系,拥有多项国际先进的核心技术,设备性能及关键指标均达到国际同类设备水平。公司通过在薄膜沉积设备这一细分领域的积累和快速发展,已经成为国内半导体设备行业的领军企业。
吕光泉先生
董事长
拓荆科技股份有限公司
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田晓明先生
总经理
拓荆科技股份有限公司
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